產(chǎn)品中心
Product Center
熱門(mén)搜索：
美國(guó)EDAX能譜儀
EP6美國(guó) Cascade Microtech EP6探針臺(tái)
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產(chǎn)全功能掃描探針原子力顯微鏡
主動(dòng)隔振臺(tái)ARISTT
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀
納米團(tuán)簇束流沉積系統(tǒng)
P7晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
P170全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
Solver P47俄羅斯產(chǎn)高性?xún)r(jià)比掃描探針顯微鏡原子力
Lumina光學(xué)表面缺陷分析儀
Profilm 3D經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀 可測(cè)樣
ET4000日本Kosaka輪廓儀（臺(tái)階儀）
當(dāng)前位置：首頁(yè)
產(chǎn)品中心納米壓印Imprint Nano納米壓印Imprint Nano納米壓印
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
納米壓印的技術(shù)與工藝特點(diǎn)，*性地設(shè)計(jì)和制備工作于低真空環(huán)境下，結(jié)合正負(fù)壓可控調(diào)節(jié)并利用壓縮空氣作為壓印驅(qū)動(dòng)力的，通過(guò)壓力傳導(dǎo)裝置、緩沖與勻壓、壓力調(diào)節(jié)控制裝置等手段實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)可靠可控的壓印過(guò)程，借助于多種靈活的自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置的巧妙設(shè)計(jì)與運(yùn)用，實(shí)現(xiàn)壓印中的自動(dòng)找平調(diào)控，以保證模板納米圖案均勻精確的大面積復(fù)制轉(zhuǎn)移。
product
產(chǎn)品分類(lèi)article
相關(guān)文章主要特點(diǎn)：
該納米壓印機(jī)利用紫外曝光或者熱壓固化實(shí)現(xiàn)壓印圖案在壓印高分子膠層中的復(fù)制，并通過(guò)各項(xiàng)功能與過(guò)程參量的優(yōu)化與篩選，通過(guò)遠(yuǎn)程PLC控制系統(tǒng)結(jié)合觸摸屏單元，實(shí)現(xiàn)納米壓印全過(guò)程的實(shí)時(shí)監(jiān)控與全自動(dòng)化控制。
技術(shù)參數(shù)：
YPL-NIL-SI400納米壓印系統(tǒng)：
溫度范圍從室溫到250攝氏度；
壓力范圍從0到300個(gè)PSI（對(duì)于4英寸晶元）；
紫外曝光系統(tǒng)；
真空范圍從1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓到0.1帕；
水冷系統(tǒng)；
樣品尺寸直徑zui大4英寸；
PLC遠(yuǎn)程控制，帶觸摸屏；
手動(dòng)裝載樣品和模板；
自帶機(jī)器控制軟件；
在軟件控制下可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)增加和釋放壓力；
可定制更大樣品尺寸或更大壓力系統(tǒng)的納米壓印機(jī)。
：
：admin@shnti.com
上一個(gè)：
返回列表
