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產(chǎn)品中心光刻機(jī)VIL1000激光干涉光刻機(jī)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
VIL1000激光干涉光刻機(jī) VIL系列納米圖形系統(tǒng)（激光干涉光刻機(jī)）具有快速可重構(gòu)光束傳輸、主動(dòng)圖形穩(wěn)定和精確樣品定位等強(qiáng)大功能。該系統(tǒng)可以通過使用標(biāo)準(zhǔn)2cm×2cm正方形或用戶定義形狀的圖案場(chǎng)進(jìn)行重復(fù)曝光，在8英寸大面積上產(chǎn)生各種納米結(jié)構(gòu)，例如1D光柵線和2D柱/孔圖案，周期從240 nm到1500 nm。
| 品牌 | 其他品牌 |
|---|
VIL1000激光干涉光刻機(jī)
VIL1000激光干涉光刻機(jī)
1、 可實(shí)現(xiàn)同一晶圓上不同納米結(jié)構(gòu)的分區(qū)光刻；
2、 制作各種一維、二維納米圖案；
3、 最小線寬低于50nm；
4、 與其他同類設(shè)備的功能對(duì)比圖如下：
電子束直寫 | 激光直寫 | 紫外光刻機(jī) | 激光干涉光刻機(jī) | |
設(shè)備示例 |  |
|  |  |
代表廠商 | 德國的Raith和Vistec, 日本的JEOL和Elionix | 海德堡和Raith | Eulitha | InterLitho |
代表性產(chǎn)品型號(hào) | Raith EBPG Plus | 海德堡 DWL 66+ | Eulitha PhableR 100 | VIL1000 |
主要用途 | 高分辨率掩模版制造和納米結(jié)構(gòu)的制備 | 對(duì)分辨率要求不高的掩模版制造和納米結(jié)構(gòu)制備 | 分辨率適中的納米結(jié)構(gòu)制備 | 大面積、低成本、高通量制備高分辨率周期性納米結(jié)構(gòu)，用于微納光學(xué)、生物芯片等新興應(yīng)用 |
刻寫的最小物理線寬 | <10nm | ~300nm | 60nm | 40nm |
價(jià)格和維護(hù)成本 | 高 | 中 | 中 | 較低 |
自動(dòng)化程度 | 全自動(dòng) | 全自動(dòng) | 部分手動(dòng) | 全自動(dòng) |
設(shè)備效率 | 低 | 低 | 高 | 高 |
需要掩模 | 否 | 否 | 是 | 否 |
特征尺寸調(diào)制難度 | 難，樣品需要重新刻寫 | 難，樣品需要重新刻寫 | 難，需要重新刻寫模板 | 容易，幾分鐘可實(shí)現(xiàn) |
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